发明授权
US08879046B2 Method for moving an optical element of a projection exposure apparatus for microlithography
有权
用于移动用于微光刻的投影曝光装置的光学元件的方法
- 专利标题： Method for moving an optical element of a projection exposure apparatus for microlithography
- 专利标题（中）： 用于移动用于微光刻的投影曝光装置的光学元件的方法
-
申请号： US14085572申请日： 2013-11-20
-
公开(公告)号： US08879046B2公开(公告)日： 2014-11-04
- 发明人: Karl-Eugen Aubele , Sven Ulmer , Klaus Rief , Marco Jassmann
- 申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 申请人地址： DE Oberkochen
- 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人地址： DE Oberkochen
- 代理机构： Fish & Richardson P.C.
- 优先权： DE102011076685 20110530
- 主分类号： G03B27/72
- IPC分类号： G03B27/72 ; G03B27/54 ; G03F7/20 ; G02B7/00 ; H02N2/02 ; H02N2/06
摘要：
A projection exposure apparatus for microlithography includes an optical element actuatable by a first and a second actuator. The actuators are controlled via control intervals in such a way that a minimum deflectability predefined in accordance with a preselectable parameter is guaranteed at every point in time of the control.
公开/授权文献
信息查询
