发明授权
US08455173B2 Photosensitive insulating resin composition, cured product of the composition, and method of producing insulating film
有权
感光性绝缘树脂组合物，组合物的固化物，以及绝缘膜的制造方法
- 专利标题： Photosensitive insulating resin composition, cured product of the composition, and method of producing insulating film
- 专利标题（中）： 感光性绝缘树脂组合物，组合物的固化物，以及绝缘膜的制造方法
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申请号： US12696021申请日： 2010-01-28
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公开(公告)号： US08455173B2公开(公告)日： 2013-06-04
- 发明人: Hirofumi Sasaki , Atsushi Itou
- 申请人： Hirofumi Sasaki , Atsushi Itou
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： JSR Corporation
- 当前专利权人： JSR Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Ditthavong Mori & Steiner, P.C.
- 优先权： JP2009-020665 20090130; JP2009-279870 20091209
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; G03F7/20 ; G03F7/004 ; G03F7/023 ; G03F7/38 ; G03F7/40 ; C08K5/1525 ; C08K5/17
摘要：
A photosensitive insulating resin composition includes (A) an alkali-soluble resin that contains (a1) a structural unit derived from a crosslinkable monomer and (a2) a structural unit having a phenolic hydroxyl group, (B) a crosslinking agent, (C) a photosensitive compound, and (D) a solvent.
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