发明授权
US08114773B2 Cleaning solution, cleaning method and damascene process using the same
有权
清洗方法，清洗方法和镶嵌工艺使用相同
- 专利标题： Cleaning solution, cleaning method and damascene process using the same
- 专利标题（中）： 清洗方法，清洗方法和镶嵌工艺使用相同
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申请号： US12830566申请日： 2010-07-06
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公开(公告)号： US08114773B2公开(公告)日： 2012-02-14
- 发明人: An-Chi Liu , Tien-Cheng Lan
- 申请人： An-Chi Liu , Tien-Cheng Lan
- 申请人地址： TW Hsinchu
- 专利权人： United Microelectronics Corp.
- 当前专利权人： United Microelectronics Corp.
- 当前专利权人地址： TW Hsinchu
- 代理机构： WPAT, PC
- 代理商 Justin King
- 主分类号： H01L21/44
- IPC分类号： H01L21/44
摘要：
A cleaning solution is provided. The cleaning solution includes (a) 0.01-0.1 wt % of hydrofluoric acid (HF); (b) 1-5 wt % of a strong acid, wherein the strong acid is an inorganic acid; (c) 0.05-0.5 wt % of ammonium fluoride (NH4F); (d) a chelating agent containing a carboxylic group; (e) triethanolamine (TEA); (f) ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA); and (g) water for balance.
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