发明授权
- 专利标题： Photosensitive composition and pattern-forming method using the photosensitive composition
- 专利标题（中）： 使用光敏组合物的感光组合物和图案形成方法
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申请号： US12853947申请日： 2010-08-10
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公开(公告)号： US08039200B2公开(公告)日： 2011-10-18
- 发明人: Kunihiko Kodama
- 申请人： Kunihiko Kodama
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Sughrue Mion, PLLC
- 优先权： JP2004-029068 20040205
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; G03F7/039 ; G03F7/20 ; G03F7/30
摘要：
A photosensitive composition comprises (A) a sulfonium or iodonium salt having an anion represented by one of formulae (I) and (II): wherein Y represents an alkylene group substituted with at least one fluorine atom, and R represents an alkyl group or a cycloalkyl group.
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