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US07154585B2 Projection optical system, exposure apparatus, and device production method 有权
投影光学系统，曝光装置和装置制作方法

Projection optical system, exposure apparatus, and device production method
摘要：
Provided is a projection optical system for forming an image of a pattern of a first object (R) on a second object (W). The projection optical system is made of an optical material having a refractive index of not more than 1.6 and is substantially telecentric both on the first object side and on the second object side. The projection optical system satisfies the condition of (λ×L)/(NA×Y02)
摘要（中）：

提供了一种用于在第二物体（W）上形成第一物体（R）的图案的图像的投影光学系统。 投影光学系统由折射率不大于1.6的光学材料制成，并且在第一物体侧和第二物体侧均基本上是远心的。 投影光学系统满足条件（lambdaxL）/（NAxY＆lt; 0＆lt; 2＆gt; 2＆lt; 2＆lt; 2＆lt; 2＆lt; 2＆lt; 2＆lt; 2＆lt; 光，L是第一物体和第二物体之间的距离，MA是第二物体侧上的数值孔径，Y 0是第二物体上的最大像高。

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