发明授权
- 专利标题： Plasma treatment of porous materials
- 专利标题（中）： 多孔材料的等离子体处理
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申请号： US10023267申请日： 2001-12-14
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公开(公告)号： US06878419B2公开(公告)日： 2005-04-12
- 发明人: Moses Mekala David , Brinda Balasubramaniam Lakshmi
- 申请人： Moses Mekala David , Brinda Balasubramaniam Lakshmi
- 申请人地址： US MN St. Paul
- 专利权人： 3M Innovative Properties Co.
- 当前专利权人： 3M Innovative Properties Co.
- 当前专利权人地址： US MN St. Paul
- 代理商 Sean Edman
- 主分类号： B01D67/00
- IPC分类号： B01D67/00 ; B01D69/02 ; B01D69/12 ; B01J19/08 ; B01J37/34 ; B29C59/14 ; C08F2/52 ; C23C16/04 ; C23C16/509 ; D06M10/02 ; D06M10/04 ; D06M10/06 ; D06M10/08 ; D06M10/10 ; H05H1/46 ; B05D3/06 ; C08J7/18
摘要：
The application discloses methods of plasma treatment that employ an ion sheath in a capacitively-coupled system to increase the hydrophilicity of porous articles, including microporous articles having pore sizes of 0.05 to 1.5 micrometers, both on their surfaces and in their pores such that the articles' bulk wetting properties are improved.
公开/授权文献
- US20030138619A1 Plasma treatment of porous materials 公开/授权日：2003-07-24
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