- 专利标题： LOW RESIDUE NO-CLEAN FLUX COMPOSITION AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR PACKAGE USING THE SAME
-
申请号： US17474805申请日： 2021-09-14
-
公开(公告)号： US20220339744A1公开(公告)日： 2022-10-27
- 发明人: Hyun Suk LEE , Sang Hoon YOON , Gwang Hyeon GOH , Jang Rak CHOI , Yong Ju SEO , Chang Il YOO , Seung Hoon LEE , Da Been PARK
- 申请人： SK hynix Inc. , Evertech Enterprise Co., Ltd.
- 申请人地址： KR Icheon-si Gyeonggi-do; KR Hwaseong-city Gyeonggi-do
- 专利权人： SK hynix Inc.,Evertech Enterprise Co., Ltd.
- 当前专利权人： SK hynix Inc.,Evertech Enterprise Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Icheon-si Gyeonggi-do; KR Hwaseong-city Gyeonggi-do
- 优先权： KR10-2021-0049322 20210415
- 主分类号： B23K35/362
- IPC分类号： B23K35/362 ; B23K1/00 ; B23K1/20 ; H01L23/00
摘要：
A flux composition includes an aromatic resin including one benzene ring and one or two hydroxyl (—OH) groups, an activator selected from a group consisting of a dicarboxylic acid and a dicarboxylic anhydride, and a solvent.
信息查询
IPC分类:
