发明申请
- 专利标题： MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
- 专利标题（中）： 单体，聚合物，组合物和方法
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申请号： US14972612申请日： 2015-12-17
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公开(公告)号： US20160179002A1公开(公告)日： 2016-06-23
- 发明人: Masayoshi Sagehashi , Koji Hasegawa , Kazuhiro Katayama , Jun Hatakeyama
- 申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2014-256295 20141218; JP2015-179394 20150911
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; C08F224/00 ; C07C69/593 ; C08F220/68 ; C07C69/013 ; C07C69/54
摘要：
A monomer having a plurality of tertiary alcoholic hydroxyl groups is provided. A useful polymer is obtained by polymerizing the monomer. From a resist composition comprising the polymer, a negative pattern which is insoluble in alkaline developer and has high etch resistance is formed at a high resolution.
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