发明申请
- 专利标题： RUTHENIUM COMPOUND HAVING SUPERIOR STEP COVERAGE AND THIN FILM DEPOSITED USING SAME
- 专利标题（中）： 具有超级步骤覆盖和薄膜沉积的钌化合物
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申请号： US14351930申请日： 2012-03-30
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公开(公告)号： US20150050431A1公开(公告)日： 2015-02-19
- 发明人: Jung Woo Park , Jun Young Kim , Kwang deok Lee , Whee Won Jin
- 申请人： Jung Woo Park , Jun Young Kim , Kwang deok Lee , Whee Won Jin
- 申请人地址： KR Jeollabuk-do
- 专利权人： HANSOL CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： HANSOL CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人地址： KR Jeollabuk-do
- 优先权： KR10-2011-0107659 20111020; KR10-2012-0025377 20120313
- 国际申请： PCT/KR2012/002390 WO 20120330
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455 ; C23C16/50 ; C23C16/448 ; C23C16/18
摘要：
The present invention relates to a ruthenium compound including a specific ligand structure of 1-ethyl-1,4-cyclohexadiene, 1,3-butadiene or isoprene and having superior thermal stability, vaporizing property and step coverage, and a thin film deposited using same.
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