发明申请
- 专利标题： Displacement Measurement Systems, Lithographic Apparatus, and Device Manufacturing Method
- 专利标题（中）： 位移测量系统，平版印刷设备和设备制造方法
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申请号： US12615685申请日： 2009-11-10
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公开(公告)号： US20100053586A1公开(公告)日： 2010-03-04
- 发明人: Renatus Gerardus KLAVER , Erik Roelof Loopstra , Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch
- 申请人： Renatus Gerardus KLAVER , Erik Roelof Loopstra , Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G01B11/14
- IPC分类号： G01B11/14 ; G03B27/58
摘要：
A displacement measurement system configured to provide measurement of the relative displacement of two components in six degrees of freedom with improved consistency and without requiring excessive space.
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