- 专利标题： Simultaneous pattern-scan placement during sample processing
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申请号： US15437804申请日： 2017-01-10
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公开(公告)号： US11850677B2公开(公告)日： 2023-12-26
- 发明人: Ciaran O'Connor , Erik Larsen , Leif Summerfield
- 申请人： Elemental Scientific Lasers, LLC
- 申请人地址： US NE Omaha
- 专利权人： Elemental Scientific Lasers, LLC
- 当前专利权人： Elemental Scientific Lasers, LLC
- 当前专利权人地址： US NE Omaha
- 代理机构： Advent, LLP
- 代理商 Kevin E. West
- 国际申请： PCT/US2017/012871 2017.01.10
- 国际公布： WO2017/123551A 2017.07.20
- 进入国家日期： 2017-02-21
- 主分类号： B23K26/00
- IPC分类号： B23K26/00 ; B23K26/06 ; B23K26/03 ; G01N21/71 ; G01N21/88 ; B23K26/361 ; B23K26/08 ; B23K26/0622 ; B23K26/082 ; B23K26/12 ; B23K26/362 ; G01N1/44 ; G06T7/00 ; B23K103/00 ; G02B21/00 ; B23K26/402 ; G02B26/10 ; H01J49/04
摘要：
A laser ablation system, and method, facilitates the execution of user-defined scans (i.e., in which a laser beam is scanned across a sample along a beam trajectory to ablate or dissociate a portion of the sample) and enables the user define additional scans while a scan is being executed.
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