- 专利标题： Imaging optical unit for EUV microlithography
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申请号： US16933595申请日： 2020-07-20
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公开(公告)号： US11422470B2公开(公告)日： 2022-08-23
- 发明人: Johannes Ruoff , Hubert Holderer
- 申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 申请人地址： DE Oberkochen
- 专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 当前专利权人地址： DE Oberkochen
- 代理机构： Fish & Richardson P.C.
- 优先权： DE102018201170.2 20180125
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
An imaging optical unit for EUV microlithography is configured so that, when used in an optical system for EUV microlithography, relatively high EUV throughput and high imaging quality can achieved.
公开/授权文献
- US20200348602A1 IMAGING OPTICAL UNIT FOR EUV MICROLITHOGRAPHY 公开/授权日：2020-11-05
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