- 专利标题： Systems and methods for photothermal material
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申请号： US16053323申请日： 2018-08-02
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公开(公告)号： US11359840B2公开(公告)日： 2022-06-14
- 发明人: Hao-Cheng Yang , Seth B. Darling , Yunsong Xie , Zhaowei Chen , Jeffrey W. Elam
- 申请人： UCHICAGO ARGONNE, LLC
- 申请人地址： US IL Chicago
- 专利权人： UCHICAGO ARGONNE, LLC
- 当前专利权人： UCHICAGO ARGONNE, LLC
- 当前专利权人地址： US IL Chicago
- 代理机构： Foley & Lardner LLP
- 主分类号： F24S70/20
- IPC分类号： F24S70/20 ; C23C16/455 ; C23C16/40 ; C02F1/44 ; B01D67/00 ; F24S70/65 ; B01D61/36 ; F24S80/00 ; C02F101/12 ; C02F103/08
摘要：
Chinese ink is applied on various materials and stabilized by atomic layer deposition to fabricate solar steam generation devices. The encapsulated ink has excellent photothermal properties and evaporation efficiency under simulated sunlight, holding great promise in solar evaporation device applications.
公开/授权文献
- US20200041169A1 SYSTEMS AND METHODS FOR PHOTOTHERMAL MATERIAL 公开/授权日：2020-02-06
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