发明授权
- 专利标题: 无电解镀金液
- 专利标题(英): Electroless gold plating solution
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申请号: CN200580026077.5申请日: 2005-08-22
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公开(公告)号: CN1993499B公开(公告)日: 2010-09-29
- 发明人: 相场玲宏 , 河村一三 , 高桥祐史
- 申请人: 日矿金属株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日矿金属株式会社
- 当前专利权人: 捷客斯金属株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 段承恩; 田欣
- 优先权: 330036/2004 2004.11.15 JP
- 国际申请: PCT/JP2005/015229 2005.08.22
- 国际公布: WO2006/051637 JA 2006.05.18
- 进入国家日期: 2007-02-01
- 主分类号: C23C18/42
- IPC分类号: C23C18/42
摘要:
本发明提供一种毒性低、能在中性附近使用的、焊锡粘附性和被膜粘附性良好的非氰系置换型无电解镀金液。所述无电解镀金液,其特征在于,含有非氰系水溶性金化合物、和亚硫酸氢化合物。该镀液优选进一步含有硫代硫酸化合物、氨基羧酸化合物。作为亚硫酸氢化合物,可以使用亚硫酸氢钠、亚硫酸氢钾、亚硫酸氢铵等。
公开/授权文献
- CN1993499A 无电解镀金液 公开/授权日:2007-07-04
IPC分类: