发明授权
CN1959879B 微细磁性元件及其电化学制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 微细磁性元件及其电化学制造方法
- 专利标题(英): Superfine magnetic elements, and electrochemical manufacturing method
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申请号: CN200610096724.6申请日: 2006-10-12
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公开(公告)号: CN1959879B公开(公告)日: 2010-05-12
- 发明人: 曲宁松 , 朱狄 , 曾永彬
- 申请人: 南京航空航天大学
- 申请人地址: 江苏省南京市御道街29号
- 专利权人: 南京航空航天大学
- 当前专利权人: 深圳市宏炬科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省南京市御道街29号
- 代理机构: 南京苏高专利商标事务所
- 代理商 阙如生
- 主分类号: H01F41/14
- IPC分类号: H01F41/14 ; C25D5/18
摘要:
本发明涉及一种微细磁性元件及其电化学制造方法,属于电铸制造领域。本发明的微细磁性元件特征在于:具有复合层与强磁性粒子层交替形成的叠层结构,且所述的复合层由金属与强磁性粒子组成。这样,显著提高磁性元件的最大磁能积,并且,在具有高最大磁能积的同时,显著降低磁性元件的尺寸。本发明的微细磁性元件的电化学制造方法,包括以下步骤:(1)将掩膜板浸入含有强磁性粒子和金属离子的电解液中;(2)将电铸电源负极与所述掩膜板相连,正极与阳极相连;(3)利用掩膜板上的掩膜限制沉积区域;(4)在掩膜板后方放置一块磁铁;(5)控制电铸回路有规律的导通和断开,使掩膜板上形成叠层结构的沉积层。
公开/授权文献
- CN1959879A 微细磁性元件及其电化学制造方法 公开/授权日:2007-05-09