发明授权
- 专利标题: 薄膜晶体管基板及其制备方法
- 专利标题(英): Thin film transistor substrate and method of making the same
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申请号: CN200610108116.2申请日: 2006-07-27
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公开(公告)号: CN1905233B公开(公告)日: 2010-10-27
- 发明人: 李容旭 , 吴俊鹤 , 金保成 , 洪雯杓
- 申请人: 三星电子株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 封新琴; 巫肖南
- 优先权: 68553/05 2005.07.27 KR
- 主分类号: H01L51/05
- IPC分类号: H01L51/05 ; H01L51/40 ; H01L27/28 ; H01L21/84
摘要:
本发明涉及薄膜晶体管基板,包括:绝缘基板;源极和漏极,它们形成在绝缘基板上并且彼此分离,并且在它们之间具有沟道区;壁,所述壁分别暴露至少部分源极和漏极,环绕沟道区和由含氟聚合物形成;和在壁内部形成的有机半导体层。因此本发明提供其中有机半导体层被平面化的TFT基板。此外,本发明还提供制备有机半导体层被平面化的TFT基板。
公开/授权文献
- CN1905233A 薄膜晶体管基板及其制备方法 公开/授权日:2007-01-31
IPC分类: