发明公开
- 专利标题: 激光退火方法及激光退火装置
- 专利标题(英): Laser annealing apparatus and annealing method
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申请号: CN200410091294.X申请日: 2004-12-01
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公开(公告)号: CN1649109A公开(公告)日: 2005-08-03
- 发明人: 本乡干雄 , 矢崎秋夫 , 波多野睦子 , 野田刚史 , 高崎幸男
- 申请人: 株式会社日立显示器
- 申请人地址: 日本千叶
- 专利权人: 株式会社日立显示器
- 当前专利权人: 株式会社日立显示器,松下液晶显示器株式会社
- 当前专利权人地址: 日本千叶
- 代理机构: 北京银龙知识产权代理有限公司
- 代理商 郝庆芬
- 优先权: 2004-022433 2004.01.30 JP
- 主分类号: H01L21/324
- IPC分类号: H01L21/324 ; H01L21/477 ; H01L21/20 ; B23K26/00
摘要:
在用光束整形器把由调制器调制过的激光整形成细长形的光束时,使光束整形器整形为细长形的光束沿扫描方向的尺寸为2~10μm、2~4μm更好,扫描速度为300~1000mm/s、500~1000mm/s更好,从而使激光能源利用效率高,而且能够不易对硅薄膜产生损伤。这样,就能够以高产量在扫描照射激光的基板上的规定区域内得到横方向生长结晶(带状结晶)的区域。
公开/授权文献
- CN100347835C 激光退火方法及激光退火装置 公开/授权日:2007-11-07
IPC分类: