一种无机取向膜的形成方法、无机取向膜、电子设备用基板、液晶面板和电子仪器，所述无机取向膜的形成方法，是在基材上形成主要由无机材料构成的无机取向膜的方法，其特征在于，包括：研磨工序，对基材的形成无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θb的方向照射离子束；成膜工序，在照射了离子束的基材上形成无机取向膜。研磨工序中预定角度θb是2度以上。研磨工序中照射离子束时的离子束的加速电压是400～1400V。根据本发明提供耐光性好、且可产生预倾角的无机取向膜。