提供了对短波长的光具有良好的透过性及耐久性、能用于使用了KrF准分子激光等的光刻工序的表膜。该表膜是表膜的膜通过粘合剂与框体粘接而成的用于波长小于等于200nm的光的曝光处理的表膜，该表膜的膜及/或该粘合剂由含有下式(1)表示的重复单元的聚合物形成，Q表示直链结构的碳原子数1～3的多氟亚烷基等或选自该多氟亚烷基中的氢原子及氟原子的1个或1个以上的原子被可含醚性氧原子的多氟烷基形成的取代基取代的基团；X表示氢原子、氟原子或可含醚性氧原子的碳原子数1～3的多氟烷基。