Invention Grant
CN1265398C 透明导电膜的图案形成方法
失效 - 权利终止
- Patent Title: 透明导电膜的图案形成方法
- Patent Title (English): Method for forming pattern of transparent conductive membrane
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Application No.: CN200410042100.7Application Date: 2004-05-09
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Publication No.: CN1265398CPublication Date: 2006-07-19
- Inventor: 宫川拓也
- Applicant: 精工爱普生株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 精工爱普生株式会社
- Current Assignee: 精工爱普生株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 李香兰
- Priority: 2003-132734 2003.05.12 JP
- Main IPC: H01B13/00
- IPC: H01B13/00 ; G02F1/1343 ; H05K3/10 ; G09F9/30
Abstract:
一种透明导电膜的图案形成方法，其特征是，由在基板表面将分散了铂族元素的特定的溶液涂布成规定形状的敏化处理工序、用于使所述铂族元素固定在基板表面的退火处理工序、将所述基板以规定时间浸渍在锡镀覆液中而在实施了所述敏化处理的位置上堆积锡的导电膜的成膜工序、对该锡的导电膜进行氧化处理而获得透明导电膜的氧化工序构成，本发明可以提供电传导性、透光性良好并且电极图案的形成容易的透明电解膜的图案形成方法。
Public/Granted literature
- CN1551250A 透明导电膜的图案形成方法 Public/Granted day:2004-12-01
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