Invention Grant
- Patent Title: 防止光致抗蚀剂去除液侵蚀的氧化膜的形成方法
- Patent Title (English): Method for forming oxide film to resist corrosion of photo resistive removing liquor
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Application No.: CN02101703.4Application Date: 2002-01-11
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Publication No.: CN1198317CPublication Date: 2005-04-20
- Inventor: 李世达
- Applicant: 矽统科技股份有限公司
- Applicant Address: 台湾省新竹科学园区
- Assignee: 矽统科技股份有限公司
- Current Assignee: 台湾省新竹科学工业园区
- Current Assignee Address: 台湾省新竹科学园区
- Agency: 北京三友知识产权代理有限公司
- Agent 刘朝华
- Main IPC: H01L21/027
- IPC: H01L21/027 ; H01L21/311
Abstract:
一种防止光致抗蚀剂去除液侵蚀的氧化膜的形成方法，通过将含氮元素注入于氧化膜的表层中，使多晶硅上的氧化膜形成具有-O-N成分的表层，在光致抗蚀剂去除过程中，具有抵抗光致抗蚀剂去除液中的氢氧化铵侵蚀的功效。
Public/Granted literature
- CN1431689A 抗光阻去除液侵蚀的氧化膜形成方法 Public/Granted day:2003-07-23
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IPC分类:
