Invention Publication
- Patent Title: 存储单元、存储器及其制造方法、电子设备
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Application No.: CN202310721171.2Application Date: 2023-06-16
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Publication No.: CN119152903APublication Date: 2024-12-17
- Inventor: 孟敬恒 , 李玉科 , 王桂磊 , 赵超
- Applicant: 北京超弦存储器研究院
- Applicant Address: 北京市大兴区北京经济技术开发区景园北街52幢5层501-12
- Assignee: 北京超弦存储器研究院
- Current Assignee: 北京超弦存储器研究院
- Current Assignee Address: 北京市大兴区北京经济技术开发区景园北街52幢5层501-12
- Agency: 北京市立方律师事务所
- Agent 宋海斌
- Main IPC: G11C11/402
- IPC: G11C11/402 ; G11C11/4063 ; G11C11/4094 ; G11C11/408

Abstract:
本申请实施例提供了一种存储单元、存储器及其制造方法、电子设备。该存储单元包括读晶体管和写晶体管,其中读晶体管为双栅晶体管,读晶体管包括第一栅极、第二栅极、第一源/漏极和第二源/漏极;第一栅极用于与读取字线电连接;第一源/漏极用于与参考电压端电连接;写晶体管包括第三源/漏极和第四源/漏极;第三源/漏极与第二栅极电连接;第四源/漏极、第二源/漏极均用于与位线电连接。本申请读晶体管为平面型晶体管,写晶体管为垂直型晶体管,读晶体管和写晶体管在垂直衬底的方向上堆叠,能够提升存储单元的集成密度。
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