发明公开
CN118778162A 形成衍射光学元件的方法
审中-实审
- 专利标题: 形成衍射光学元件的方法
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申请号: CN202411097581.5申请日: 2020-10-24
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公开(公告)号: CN118778162A公开(公告)日: 2024-10-15
- 发明人: 摩根·艾文斯 , 鲁格·迈尔提摩曼提森 , 约瑟·C·欧尔森
- 申请人: 应用材料股份有限公司
- 申请人地址: 美国加州圣塔克拉尔,鲍尔斯大道3050号(邮递区号:95054)
- 专利权人: 应用材料股份有限公司
- 当前专利权人: 应用材料股份有限公司
- 当前专利权人地址: 美国加州圣塔克拉尔,鲍尔斯大道3050号(邮递区号:95054)
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 钟善宝; 刘芳
- 优先权: 16/681,260 20191112 US
- 主分类号: G02B5/18
- IPC分类号: G02B5/18 ; G02B6/02 ; G02B6/00 ; B29D11/00
摘要:
提供制造具有拥有可变高度的沟槽的光栅的方法,具体而言,提供一种形成衍射光学元件的方法。在一个实例中,一种形成衍射光学元件的方法可包括:在衬底之上提供光学光栅层;在所述光学光栅层之上图案化硬掩模;以及在所述硬掩模之上形成牺牲层,所述牺牲层具有从所述光学光栅层的顶表面测量的非均匀高度。所述方法还可包括在所述光学光栅层中蚀刻成角度的多个沟槽以形成光学光栅,其中所述多个沟槽中的第一沟槽的深度不同于所述多个沟槽中的第二沟槽的深度。