本发明公开了一种制备四英寸超平整单晶六方氮化硼晶圆的方法，属于材料领域。本发明的单晶六方氮化硼晶圆的制备方法，包括如下步骤：(1)采用磁控溅射的方法在蓝宝石上溅射一层镍膜，然后在镍膜上再溅射一层铜膜，得到铜/镍/蓝宝石；(2)将所述铜/镍/蓝宝石进行高温退火处理，得到单晶铜镍合金晶圆；(3)采用低压化学气相沉积在所述单晶铜镍合金晶圆上生长六方氮化硼，得到所述单晶六方氮化硼晶圆。本发明制备得到的六方氮化硼表面非常平整、单晶性高、无褶皱、封装性好，在通讯、电子、二维材料器件以及金属保护层等领域具有非常广泛的应用前景。