本发明提供了一种用于真空镀膜的靶材座组件及真空镀膜设备，所述靶材座组件在靶座上设置有上绝缘套和下绝缘套，所述上绝缘套和所述下绝缘套上设置有第一台阶和第二台阶，所述第二台阶比所述第一台阶长，且所述上绝缘套的上端面高于所述靶座的上端面；其在所述靶材与所述所述靶座固定连接压紧置于碳膜时，在所述靶材压力作用下所述第二台阶能发生弹性变形，以使所述上绝缘套的上端面始终与所述靶材的下端面紧密贴合；如此能有效保证在尺寸存在偏差时进行补偿，以避免绝缘套把靶材顶死导致碳膜松动的情况，以及避免绝缘套和靶材之间存在间隙，造成短路的现象；同时既能保证了绝缘套的通用性，也延长了其使用周期。