发明公开
- 专利标题: 改善光波导损耗和偏振敏感性的波导结构及其制备方法
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申请号: CN202410018302.5申请日: 2024-01-05
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公开(公告)号: CN118091838A公开(公告)日: 2024-05-28
- 发明人: 雷莹 , 丁奕心 , 郝沁汾
- 申请人: 无锡芯光互连技术研究院有限公司
- 申请人地址: 江苏省无锡市锡山区安镇街道兖矿信达大厦A栋802
- 专利权人: 无锡芯光互连技术研究院有限公司
- 当前专利权人: 无锡芯光互连技术研究院有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省无锡市锡山区安镇街道兖矿信达大厦A栋802
- 主分类号: G02B6/126
- IPC分类号: G02B6/126 ; G02B6/136 ; G02B6/13 ; G02B6/132 ; G02B6/122 ; G02B6/124 ; G02B6/12
摘要:
本发明公开了一种改善光波导损耗和偏振敏感性的波导结构及其制备方法,涉及硅光技术领域,其技术方案要点是:改善光波导损耗和偏振敏感性的波导结构,设置于基底上,波导结构包括第一分体、第二分体和第三分体;其中,第一分体设置于第二分体的一侧,第三分体设置于第二分体的另一侧且与第一分体正相对,第一分体与第三分体的形状相同且相对于第二分体对称;第二分体为平板型结构;基底位于第三分体的远离第二分体的一侧,基底与第三分体的部分外表面接触;基底包括衬底和下包层。其特点是具有较低的光传输损耗低和较低的偏振相关性。