- 专利标题： 一种光学邻近校正模型的建模方法、使用方法及相关装置
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申请号： CN202410480510.7申请日： 2024-04-22
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公开(公告)号： CN118068662B公开(公告)日： 2024-07-23
- 发明人: 请求不公布姓名
- 申请人： 华芯程(杭州)科技有限公司
- 申请人地址： 浙江省杭州市余杭区良渚街网周路99号1幢22层2208室
- 专利权人： 华芯程(杭州)科技有限公司
- 当前专利权人： 华芯程(杭州)科技有限公司
- 当前专利权人地址： 浙江省杭州市余杭区良渚街网周路99号1幢22层2208室
- 代理机构： 北京集佳知识产权代理有限公司
- 代理商 姚莹丽
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
本申请公开了一种光学邻近校正模型的建模方法、使用方法及相关装置，属于光刻技术领域。本申请在光学邻近模型建模时收集多个不同图案在不同曝光剂量下的关键尺寸量测值，并以此得到每个图案的图像斜率。在优化模型参数时将仿真和量测的图像斜率值的差别加入目标函数。将量测的光刻后图像斜率引入建模的目标函数，使得模型既可以准确的预测光刻后图案轮廓，又可以准确地预测光刻后图像斜率信息，保证了光学邻近校正模型在各种应用场景下的精确度。
公开/授权文献
- CN118068662A 一种光学邻近校正模型的建模方法、使用方法及相关装置 公开/授权日：2024-05-24
IPC分类:
