发明公开
- 专利标题: 一种偏析法产光箔氧化膜前处理方式
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申请号: CN202410109879.7申请日: 2024-01-26
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公开(公告)号: CN118028937A公开(公告)日: 2024-05-14
- 发明人: 冒慧敏 , 严李 , 李姜红 , 朱伟晨 , 徐中均 , 王建中
- 申请人: 南通海星电子股份有限公司 , 南通海一电子有限公司 , 宁夏海力电子有限公司
- 申请人地址: 江苏省南通市通州区平潮镇通扬南路518号; ;
- 专利权人: 南通海星电子股份有限公司,南通海一电子有限公司,宁夏海力电子有限公司
- 当前专利权人: 南通海星电子股份有限公司,南通海一电子有限公司,宁夏海力电子有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省南通市通州区平潮镇通扬南路518号; ;
- 代理机构: 南京正联知识产权代理有限公司
- 代理商 王凯
- 主分类号: C25D11/16
- IPC分类号: C25D11/16 ; C25D11/24
摘要:
本发明涉及腐蚀箔生产技术领域,具体涉及一种偏析法产光箔氧化膜前处理方式。本发明的偏析法产光箔氧化膜前处理方式通过将氨基氯苯酚缩醛‑7‑羟基‑8香豆素醛加入到前处理液中,使得铝箔表面形成分布均匀的起始发孔缺陷位点,解决了后续电腐蚀表面蚀孔分部不均匀、出现色差以及隧道孔长度不一致的问题、使得成品腐蚀箔的表面无效并孔减少成品腐蚀箔,隧道孔分布更加均匀,从而使得无效生长残芯变少。本发明的偏析法产光箔氧化膜前处理方式在腐蚀箔生产技术领域,具有广泛的应用前景。