本发明涉及溅射靶材技术领域，且公开了一种氧化钼靶材及制备方法，氧化钼靶材的制备方法包括以下步骤：将钼酸铵在还原气氛下进行多温区还原处理，得到高纯氧化钼粉体；将高纯氧化钼粉体进行过筛处理并压制成型，得到压制坯；将压制坯进行热等静压烧结，得到氧化钼靶材烧结坯；将烧结坯进行机械加工处理，得到所需氧化钼靶材；本发明的氧化钼靶材具有一定导电率的氧化钼溅射靶材，能够适用于磁控溅射直流电源设备需求，更有利于满足磁控溅射制备氧化钼膜层的实际应用。