Invention Publication
- Patent Title: 一种二氢二氧庚环的合成方法
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Application No.: CN202311522712.5Application Date: 2023-11-15
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Publication No.: CN117964601APublication Date: 2024-05-03
- Inventor: 梁少平 , 刘士温 , 毛建拥 , 乔胜超 , 安雪 , 王可进 , 刘晓彤 , 马俊杰
- Applicant: 山东新和成精化科技有限公司 , 山东新和成维生素有限公司
- Applicant Address: 山东省潍坊市滨海区龙威支路00268号;
- Assignee: 山东新和成精化科技有限公司,山东新和成维生素有限公司
- Current Assignee: 山东新和成精化科技有限公司,山东新和成维生素有限公司
- Current Assignee Address: 山东省潍坊市滨海区龙威支路00268号;
- Agency: 杭州知闲专利代理事务所
- Agent 张勋斌
- Main IPC: C07D321/06
- IPC: C07D321/06
Abstract:
本发明公开了一种二氢二氧庚环的合成方法，包括：在光催化剂和疏水剂的存在下，正丁醛和1，4‑丁烯二醇在光照条件下进行光催化反应，反应结束后经过后处理得到所述的二氢二氧庚环；所述的光催化剂氧掺杂半导体催化剂、硫掺杂半导体催化剂、氮掺杂半导体催化剂、复合半导体催化剂、过渡金属掺杂半导体催化剂中的一种或几种。该合成方法克服了传统工艺反应时间长、转化率低、能耗高、催化剂磨损高的问题。
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