发明公开
CN117957427A 分光测定装置
审中-实审
- 专利标题: 分光测定装置
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申请号: CN202280062448.9申请日: 2022-09-01
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公开(公告)号: CN117957427A公开(公告)日: 2024-04-30
- 发明人: 石丸伊知郎
- 申请人: 国立大学法人香川大学
- 申请人地址: 日本香川县
- 专利权人: 国立大学法人香川大学
- 当前专利权人: 国立大学法人香川大学
- 当前专利权人地址: 日本香川县
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 李靖
- 优先权: 2021-149236 20210914 JP
- 国际申请: PCT/JP2022/032916 2022.09.01
- 国际公布: WO2023/042668 JA 2023.03.23
- 进入国家日期: 2024-03-14
- 主分类号: G01J3/453
- IPC分类号: G01J3/453 ; G01J3/02
摘要:
分光测定装置(1)具备:准直光学系统(15),其对来自试样(S)的测定点(a)的物体光进行准直;光检测器(21),其具有在规定的方向上排列有多个像素的受光面;共轭面成像光学系统(11),其设置在试样与准直光学系统之间,用于形成与该试样的表面在光学上共轭的面;振幅型衍射光栅(13),其配置于所述共轭的面,所述振幅型衍射光栅(13)是通过在遮光构件设置多个开口而得到的,该遮光构件的光入射面或光出射面由物体光的波长范围下的遮光率高于硅的遮光率的材料形成;光路长度差赋予光学系统(16),其将准直后的物体光分割为第一光束和第二光束并赋予光路长度差;以及干涉光学系统(17),其使被赋予了光路长度差的第一光束与第二光束干涉,来沿着所述规定的方向在所述受光面形成干涉像。