发明公开
- 专利标题: 分析检测装置及乏燃料后处理系统
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申请号: CN202311873405.1申请日: 2023-12-29
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公开(公告)号: CN117831808A公开(公告)日: 2024-04-05
- 发明人: 宗春光 , 李元景 , 杨祎罡 , 王锋 , 樊旭平 , 孟辉 , 史俊平 , 王东宇 , 明申金
- 申请人: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
- 申请人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层;
- 专利权人: 同方威视技术股份有限公司,清华大学
- 当前专利权人: 同方威视技术股份有限公司,清华大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区双清路同方大厦A座2层;
- 代理机构: 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理商 张文超
- 主分类号: G21C17/06
- IPC分类号: G21C17/06 ; G21F3/00
摘要:
本公开涉及一种分析检测装置及乏燃料后处理系统,分析检测装置包括:基座;屏蔽体,固定于基座且包括主体部和封闭部,封闭部用于封闭主体部的开口且可开合;加速器组件和辐射源,加速器组件沿第一方向位于屏蔽体的一侧,且沿第一方向可移动地安装于基座,辐射源固定于加速器组件沿第一方向的一侧且位于屏蔽体内;测量组件,固定于屏蔽体内,且沿第一方向位于辐射源远离加速器组件的一侧,用于容纳被检物以实现检测模式;标定组件,通过开口可拆卸地安装在屏蔽体内,且沿第一方向位于辐射源远离加速器组件的一侧,用于容纳标定物以实现标定模式;和探测器组件,沿第二方向设在屏蔽体的一侧,且沿第一方向可移动地安装于基座。