本发明涉及半导体设备技术领域，具体而言，涉及一种过滤装置和半导体研磨设备；过滤装置包括箱体、缓冲机构和沉淀机构，箱体设置有箱体入口、箱体出口、缓冲腔和沉淀腔；箱体入口与缓冲腔连通，箱体出口与沉淀腔连通，且缓冲腔和沉淀腔连通；缓冲机构设置于缓冲腔内，缓冲机构用于缓冲从箱体入口进入缓冲腔的混合介质，并引导经过缓冲的混合介质进入沉淀腔；沉淀机构设置于沉淀腔内，沉淀机构用于使进入沉淀腔的混合介质中的颗粒沉淀。该过滤装置能可靠地过滤、去除介质中的颗粒物，以减少颗粒物造成水环真空泵的损坏。