- 专利标题: 一种用于测量离子散射束束流密度的测流装置及方法
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申请号: CN202311791694.0申请日: 2023-12-25
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公开(公告)号: CN117706606B公开(公告)日: 2024-08-20
- 发明人: 缑洁 , 张崇宏 , 杨义涛 , 宋银 , 张雍 , 李建洋
- 申请人: 中国科学院近代物理研究所
- 申请人地址: 甘肃省兰州市城关区南昌路509号
- 专利权人: 中国科学院近代物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院近代物理研究所
- 当前专利权人地址: 甘肃省兰州市城关区南昌路509号
- 代理机构: 北京纪凯知识产权代理有限公司
- 代理商 谢斌
- 主分类号: G01T1/29
- IPC分类号: G01T1/29
摘要:
本发明公开了一种用于测量离子散射束束流密度的测流装置及方法,该测流装置包括:基座,呈圆柱形结构,且基座适于安装在旋转升降台上;测流环,为圆环形结构,若干直径不相等的测流环同心地固定在基座的正面侧,且各测流环的中心位于束线的中心,各测流环的正面位于同一平面以形成测流平面,以测试束流引起的电流信号;偏压环,设置在测流环前侧,且偏压环的中心亦位于束线的中心,偏压环用于提供负偏压,以抑制束流打到测流环上产生的二次电子。本发明中测流装置的测流信号由一系列同心设置的测流环引出,偏压信号由位于测流环前方的偏压环引入,由此可以测量离子散射束介于边沿处和中心处之间的束流密度。
公开/授权文献
- CN117706606A 一种用于测量离子散射束束流密度的测流装置及方法 公开/授权日:2024-03-15