发明公开
CN117508541A 一种低流阻喷管段装置
审中-实审
- 专利标题： 一种低流阻喷管段装置
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申请号： CN202311619128.1申请日： 2023-11-28
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公开(公告)号： CN117508541A公开(公告)日： 2024-02-06
- 发明人: 何基弘 , 姚思楠 , 汪进文 , 韩海荣 , 卢永进
- 申请人： 中国舰船研究设计中心
- 申请人地址： 湖北省武汉市武昌区张之洞路268号
- 专利权人： 中国舰船研究设计中心
- 当前专利权人： 中国舰船研究设计中心
- 当前专利权人地址： 湖北省武汉市武昌区张之洞路268号
- 代理机构： 中国船舶专利中心
- 代理商 王宁
- 主分类号： B63H21/32
- IPC分类号： B63H21/32
摘要：
本发明提供了一种低流阻喷管段装置，所述低流阻喷管段装置包括喷管段和多个减阻导流罩，以及多个喷管；喷管段为筒状结构，所述喷管段具有进口；多个减阻导流罩为贯通的筒状结构，多个所述减阻导流罩一端与所述进口随形拟合后封闭连接，以使所述进口的排气灌入所述减阻导流罩，所述减阻导流罩另一端具有喷口，以使气体通过所述喷口排出；每个所述减阻导流罩的所述喷口连接所述喷管。通过气道结构设计，有助于解决现有技术中缺乏一种散热结构的技术问题。
