发明公开
- 专利标题： 一种具有超低反射率的复合膜及其制备方法和应用
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申请号： CN202311257549.4申请日： 2023-09-27
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公开(公告)号： CN117192660A公开(公告)日： 2023-12-08
- 发明人: 孔壮 , 黄永刚 , 孙勇 , 孟凡禹 , 赵劲凯 , 杨亮亮 , 王威 , 那天一 , 刘波
- 申请人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区管庄东里1号
- 专利权人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 当前专利权人： 中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区管庄东里1号
- 代理机构： 北京鼎佳达知识产权代理事务所
- 代理商 霍红艳; 刘铁生
- 主分类号： G02B1/115
- IPC分类号： G02B1/115
摘要：
本发明是关于一种具有超低反射率的复合膜及其制备方法和应用，所述具有超低反射率的复合膜包括在铜基底上依次交替设置的吸收层和光匹配层。本发明所述的复合膜专门用于精密的铜制品零件，结合力高，波长范围在400‑800nm之间反射率小于0.3％。
