发明授权
- 专利标题: 一种锆钇铬合金溅射靶材的加工工艺
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申请号: CN202310979383.0申请日: 2023-08-05
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公开(公告)号: CN116926484B公开(公告)日: 2024-01-30
- 发明人: 张凤戈 , 张学华 , 魏铁峰 , 张欠男 , 岳万祥 , 施政 , 孟晓亭
- 申请人: 苏州六九新材料科技有限公司 , 北京安泰六九新材料科技有限公司 , 涿州安泰六九新材料科技有限公司
- 申请人地址: 江苏省苏州市苏州工业园区漕湖街道春兴路45号平谦国际(苏相)产业园二期K栋5楼西侧
- 专利权人: 苏州六九新材料科技有限公司,北京安泰六九新材料科技有限公司,涿州安泰六九新材料科技有限公司
- 当前专利权人: 苏州六九新材料科技有限公司,北京安泰六九新材料科技有限公司,涿州安泰六九新材料科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市苏州工业园区漕湖街道春兴路45号平谦国际(苏相)产业园二期K栋5楼西侧
- 代理机构: 北京维正专利代理有限公司
- 代理商 沈娟
- 主分类号: C23C14/34
- IPC分类号: C23C14/34 ; C22C1/02 ; C22C16/00 ; B22D7/00 ; C22F1/18
摘要:
本申请涉及溅射靶材加工技术领域,具体公开了一种锆钇铬合金溅射靶材的加工工艺。加工工艺包括如下步骤:将72.5‑79重量份的锆块、16‑22重量份的钇块、2.5‑7.5重量份的铬块混合,获得混合料;在惰性气体保护、电磁搅拌下,将混合料升温熔融,获得金属混合液;将金属混合液于锭模中浇注,脱锭模,降温至室温,获得合金锭;将合金锭进行热处理,获得锆钇铬合金溅射靶材。该加工工艺获得的锆钇铬合金溅射靶材,平均晶粒粒度<50μm、钇加工损失率<5%,确保锆钇铬合金溅射靶材中钇含量,降低钇资源浪费,而且锆钇铬合金溅射靶材具有高致密度、无气孔、无偏析、无裂纹、组织均匀、易于加工的
公开/授权文献
- CN116926484A 一种锆钇铬合金溅射靶材的加工工艺 公开/授权日:2023-10-24
IPC分类: