- 专利标题: 窄谱带蓝光Cu-Ga-S/ZnS纳米晶的制备方法
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申请号: CN202310858144.X申请日: 2023-07-13
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公开(公告)号: CN116891738B公开(公告)日: 2024-10-18
- 发明人: 唐爱伟 , 牛文韬
- 申请人: 北京交通大学
- 申请人地址: 北京市海淀区西直门外上园村3号
- 专利权人: 北京交通大学
- 当前专利权人: 北京交通大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区西直门外上园村3号
- 代理机构: 北京市商泰律师事务所
- 代理商 邹芳德
- 主分类号: C09K11/62
- IPC分类号: C09K11/62 ; B82Y20/00 ; B82Y30/00 ; C09K11/02 ; H01L33/50
摘要:
本发明提供一种窄谱带蓝光Cu‑Ga‑S/ZnS纳米晶的制备方法,属于量子点合成技术领域,基于热注射法制备窄谱带蓝光Cu‑Ga‑S/ZnS纳米晶,制备使用的药品为IB族、IIIA族金属盐及VIA族单质、化合物;光致发光光谱半峰全宽小于50nm,光致发光峰位于470‑480nm处。本发明Cu‑Ga‑S纳米晶使用ZnS壳层包覆后,在量子点表面形成梯度分布的富锌合金结构,在470‑480nm处出现明显的窄谱带光致发光峰,半峰全宽为36‑46nm,实现了窄谱带发光特性,具有构筑电致发光器件的前景;具有优异的结晶性、分散性及发光特性,做为发光层进行电致发光二极管的构筑,能够获得高色纯度的无镉QLED器件;合成方式简便,材料廉价易得,原材料无毒无害,反应时间较短,便于产业化大批量生产。
公开/授权文献
- CN116891738A 窄谱带蓝光Cu-Ga-S/ZnS纳米晶的制备方法 公开/授权日:2023-10-17