发明公开
- 专利标题: 一种高光密度绿光量子点及其制备方法
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申请号: CN202310611903.2申请日: 2023-05-26
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公开(公告)号: CN116574500A公开(公告)日: 2023-08-11
- 发明人: 赵治强 , 高晓斌
- 申请人: 北京北达聚邦科技有限公司 , 魏县聚邦新材料科技有限公司 , 河北欧莱德光电材料科技有限公司
- 申请人地址: 北京市大兴区中关村科技园区大兴生物医药产业基地庆丰西路29号院1号楼二层E区2206室; ;
- 专利权人: 北京北达聚邦科技有限公司,魏县聚邦新材料科技有限公司,河北欧莱德光电材料科技有限公司
- 当前专利权人: 北京北达聚邦科技有限公司,魏县聚邦新材料科技有限公司,河北欧莱德光电材料科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市大兴区中关村科技园区大兴生物医药产业基地庆丰西路29号院1号楼二层E区2206室; ;
- 代理机构: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司
- 代理商 张丹锡
- 主分类号: C09K11/02
- IPC分类号: C09K11/02 ; C09K11/88 ; B82Y20/00 ; B82Y30/00 ; B82Y40/00
摘要:
本发明公开了一种高光密度绿光量子点的制备方法,包括使用锌源与硒前驱体制备第一量子点核,然后通过阳离子交换和合金化反应形成第二量子点核,然后依次包覆CdZnSe过渡层、ZnSeS过渡层和ZnS壳层。本发明还公开了上述制备方法制得的量子点。本发明通过第一、第二量子点核的制备,控制阳离子交换和合金化反应,得到有利于高光密度的绿光量子点核,通过过渡壳层的设定,减小了量子点晶格的缺陷,制备出发射波长可控、半峰宽窄、荧光效率高,光密度高的绿光量子点。采用该量子点制得的量子点膜,达到相同色坐标的情况下,量子点的用量大幅度减少,与常规绿光量子点相比,在超薄量子点膜片应用条件下,表现出更高的蓝光吸收与转换效率。
公开/授权文献
- CN116574500B 一种高光密度绿光量子点及其制备方法 公开/授权日:2023-11-14