发明公开
- 专利标题: 真空和常压环境SiC MOSFET器件加速老化试验平台
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申请号: CN202310417773.9申请日: 2023-04-18
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公开(公告)号: CN116520052A公开(公告)日: 2023-08-01
- 发明人: 杜雄 , 刘强强 , 任宏宇 , 王振业 , 周君洁 , 余瑶怡 , 陈锐
- 申请人: 重庆大学
- 申请人地址: 重庆市沙坪坝区沙正街174号
- 专利权人: 重庆大学
- 当前专利权人: 重庆大学
- 当前专利权人地址: 重庆市沙坪坝区沙正街174号
- 代理机构: 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司
- 代理商 胡博文
- 主分类号: G01R31/00
- IPC分类号: G01R31/00 ; G01N17/02
摘要:
本发明公开了一种真空和常压环境SiC MOSFET器件加速老化试验平台,包括加热控制单元、检测控制单元、数据采集模块、置于真空环境中的第一待测器件DUT1以及置于常压环境中的第二待测器件DUT2;加热控制单元与检测控制单元并联,第一待测器件DUT1和第二待测器件DUT2串联后与加热控制单元和检测控制单元并联;数据采集模块分别与第一待测器件DUT1和第二待测器件DUT2连接,用于采集第一待测器件DUT1和第二待测器件DUT2的实验数据。本发明能够同时在真空和常压环境下对SiC MOSFET器件进行加速老化,且保证了散热方式、加热和测量电流等其它变量的一致性,保证了试验数据的可对比性,确保最终能够准确的分析真空环境对SiC MOSFET器件老化的影响。