发明公开
- 专利标题： 一种基于脱溴反应的化学气相沉积制备晶圆级有机分子薄膜的方法
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申请号： CN202111367216.8申请日： 2021-11-18
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公开(公告)号： CN116135914A公开(公告)日： 2023-05-19
- 发明人: 武斌 , 姚文乾 , 杨贺 , 刘云圻
- 申请人： 中国科学院化学研究所
- 申请人地址： 北京市海淀区中关村北一街2号
- 专利权人： 中国科学院化学研究所
- 当前专利权人： 中国科学院化学研究所
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区中关村北一街2号
- 代理机构： 北京纪凯知识产权代理有限公司
- 代理商 吴爱琴
- 主分类号： C08J5/18
- IPC分类号： C08J5/18 ; C08L65/00 ; B05D1/00
摘要：
本发明提供一种基于脱溴反应的化学气相沉积制备晶圆级有机分子薄膜的方法。以含溴官能团有机小分子作为前驱体，利用化学气相沉积法，在铜的催化作用下使分子脱溴发生聚合，形成二维周期性结构的大面积连续的二维层状薄膜，即大面积、连续的、有机分子薄膜。本发明针对一类难溶的有机小分子，可制备大面积的薄膜，且厚度为纳米级可控，而现有有机薄膜制备方法多为旋涂法和溶液法，旋涂法要求具有一定溶解性，溶液法对薄膜的厚度可控性有限。
