Invention Publication
- Patent Title: 一种衰减器制备方法及系统
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Application No.: CN202310113681.1Application Date: 2023-02-10
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Publication No.: CN116083844APublication Date: 2023-05-09
- Inventor: 肖新来 , 张毅 , 张志强 , 高志强 , 高凯阅 , 陈书超 , 张彬 , 张欣玲
- Applicant: 山东微波电真空技术有限公司
- Applicant Address: 山东省济南市历城区王舍人街道工业北路矿源路9号15号楼1楼101室
- Assignee: 山东微波电真空技术有限公司
- Current Assignee: 山东微波电真空技术有限公司
- Current Assignee Address: 山东省济南市历城区王舍人街道工业北路矿源路9号15号楼1楼101室
- Agency: 济南千慧专利事务所
- Agent 孟令鲁
- Main IPC: C23C14/04
- IPC: C23C14/04 ; C23C14/50 ; C23C14/06 ; C23C14/58 ; H01J25/34

Abstract:
本发明属于空间行波管技术领域,具体提供了一种衰减器制备方法及系统,其衰减器制备方法包括利用真空镀膜机对夹持杆中待镀膜区域镀碳膜,以形成镀膜区域,镀膜区域中任意一点的实际厚度数值不低于预设数值;沿夹持杆轴向将镀膜区域分隔成多个子区域,测量每个子区域的电阻,根据子区域的电阻、夹持杆的尺寸、子区域的长度以及碳膜的电阻率计算得出每个子区域中碳膜的实际厚度数值;将每个子区域的实际厚度数值与预设数值进行比较,利用激光烧蚀的方式去除多余厚度的碳膜。
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