发明公开
CN115915906A 存储器件
审中-实审
- 专利标题: 存储器件
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申请号: CN202310098689.5申请日: 2017-02-03
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公开(公告)号: CN115915906A公开(公告)日: 2023-04-04
- 发明人: 朴在勤 , 李斗荣 , 李承垠
- 申请人: 汉阳大学校产学协力团
- 申请人地址: 韩国首尔
- 专利权人: 汉阳大学校产学协力团
- 当前专利权人: 汉阳大学校产学协力团
- 当前专利权人地址: 韩国首尔
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 李兴福; 刘芳
- 优先权: 10-2016-0015154 20160205 KR 10-2016-0015154 20160205 KR 10-2016-0015154 20160205 KR 10-2016-0015154 20160205 KR
- 主分类号: H10N50/10
- IPC分类号: H10N50/10 ; H10N50/80 ; H10B61/00 ; G11C11/16
摘要:
本发明公开存储器件,即,在基板层叠下部电极、种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结、覆盖层及上部电极,在磁隧道结和覆盖层之间形成扩散阻挡层。并且,本发明公开存储器件,即,在基板层叠下部电极、种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结、覆盖层及上部电极。种子层由使合成交换半磁性层向面心立方结构(111)方向形成的物质形成。并且,本发明公开存储器件,即,在两个电极之间层叠种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结及覆盖层,磁隧道结包括形成于两个自由层之间的插入层,分离层、插入层及覆盖层的至少一个由体心立方结构的物质形成。