发明公开
- 专利标题: 发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管
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申请号: CN202211519856.0申请日: 2022-11-30
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公开(公告)号: CN115911202A公开(公告)日: 2023-04-04
- 发明人: 高虹 , 程龙 , 郑文杰 , 舒俊 , 张彩霞 , 程金连 , 印从飞 , 刘春杨 , 吕蒙普 , 胡加辉 , 金从龙
- 申请人: 江西兆驰半导体有限公司
- 申请人地址: 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号
- 专利权人: 江西兆驰半导体有限公司
- 当前专利权人: 江西兆驰半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号
- 代理机构: 广州三环专利商标代理有限公司
- 代理商 李素兰
- 主分类号: H01L33/06
- IPC分类号: H01L33/06 ; H01L33/12 ; H01L33/32 ; H01L33/00
摘要:
本发明公开了一种发光二极管外延片及其制备方法、发光二极管,所述发光二极管外延片包括衬底及依次层叠于所述衬底上的缓冲层、N型GaN层、应力释放层、有源层、电子阻挡层、P型GaN层;所述有源层包括依次层叠于所述应力释放层上的第一有源层、第二有源层和第三有源层,所述第一有源层包括周期性层叠的第一量子阱层和第一量子垒层,所述第二有源层包括周期性层叠的第二量子阱层和第二量子垒层,所述第三有源层包括周期性层叠的第三量子阱层和第三量子垒层。本发明提供的发光二极管外延片能够进一步改善droop效应,提升辐射复合几率,获得更佳的光电性能。
IPC分类: