- 专利标题: 一种含Zr-C-Si主链单源超高温陶瓷先驱体的制备方法
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申请号: CN202111168434.9申请日: 2021-09-30
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公开(公告)号: CN115894940B公开(公告)日: 2023-09-15
- 发明人: 韩成 , 高强 , 王小宙 , 王应德
- 申请人: 中国人民解放军国防科技大学
- 申请人地址: 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 专利权人: 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人: 中国人民解放军国防科技大学
- 当前专利权人地址: 湖南省长沙市开福区德雅路109号
- 代理机构: 长沙国科天河知识产权代理有限公司
- 代理商 邱轶
- 主分类号: C08G77/60
- IPC分类号: C08G77/60 ; C04B35/515
摘要:
本发明涉及一种含Zr‑C‑Si主链单源超高温陶瓷先驱体的制备方法,该先驱体含有如下分子链结构:#imgabs0#主链结构单元为Zr‑C‑Si,n表示聚合度,制备方法:首先利用Cp2ZrCl2与还原性金属Mg生成低氧化态Cp2Zr(Ⅱ)等效活性物种,而后加入(CH3)2Si(CH2Cl)2并在110℃下进行共聚,过滤除去反应副产物镁盐,真空浓缩,除去溶剂得到橙黄色聚锆碳硅烷先驱体。本发明的制备方法方案新颖,设备工艺简单,所得先驱体能溶解于甲苯、THF等有机溶剂,软化点为140~185℃,良好的溶解熔融性能有助于后续成型加工以及功能化应用。
公开/授权文献
- CN115894940A 一种含Zr-C-Si主链单源超高温陶瓷先驱体的制备方法 公开/授权日:2023-04-04