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磁存储器及其制造方法
Abstract:
本公开涉及半导体器件及其制造技术领域,具体涉及磁存储器及其制造方法,所述磁存储器至少包括:反铁磁层,所述反铁磁层的材料为非共线反铁磁材料;磁隧道结,设置于所述反铁磁层上,所述磁隧道结自下而上依次包括自由层、隧穿势垒层和参考层;其中,当所述反铁磁层通入电流时,利用所述反铁磁层的自旋轨道矩效应改变所述反铁磁层与所述自由层形成的交换偏置场方向,进而翻转所述自由层的磁矩方向。可以借助非共线反铁磁材料的反铁磁层其内部的自旋轨道矩效应进行磁矩翻转,从而大幅降低了写入电流,进而降低了该磁存储器的功耗,也更易于驱动该磁存储器。
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