Invention Publication
- Patent Title: 磁存储器及其制造方法
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Application No.: CN202211499465.7Application Date: 2022-11-28
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Publication No.: CN115884601APublication Date: 2023-03-31
- Inventor: 范晓飞 , 陈文静 , 曹凯华 , 刘宏喜 , 王戈飞
- Applicant: 致真存储(北京)科技有限公司
- Applicant Address: 北京市海淀区知春路6号(锦秋国际大厦)10层A03
- Assignee: 致真存储(北京)科技有限公司
- Current Assignee: 青岛海存微电子有限公司
- Current Assignee Address: 266400 山东省青岛市黄岛区映山红路117号1栋1605室
- Agency: 北京墨丘知识产权代理事务所
- Agent 魏梳芳
- Main IPC: H10B61/00
- IPC: H10B61/00 ; H10N35/00 ; H10N35/01 ; H10N35/85

Abstract:
本公开涉及半导体器件及其制造技术领域,具体涉及磁存储器及其制造方法,所述磁存储器至少包括:反铁磁层,所述反铁磁层的材料为非共线反铁磁材料;磁隧道结,设置于所述反铁磁层上,所述磁隧道结自下而上依次包括自由层、隧穿势垒层和参考层;其中,当所述反铁磁层通入电流时,利用所述反铁磁层的自旋轨道矩效应改变所述反铁磁层与所述自由层形成的交换偏置场方向,进而翻转所述自由层的磁矩方向。可以借助非共线反铁磁材料的反铁磁层其内部的自旋轨道矩效应进行磁矩翻转,从而大幅降低了写入电流,进而降低了该磁存储器的功耗,也更易于驱动该磁存储器。
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