本发明公开了一种扩大等离子体有效反应面积的方法，本发明通过根据腔体中工件台上基体所预获得的等离子体的沉积面积和沉积形状来选择承载所述基体的工件台的预设组件，然后通过分布在预设组件的预设圆环形区域上的通道将从腔体外注入的反应气体电离化后排出，配合调整施加到所述通道的外部电压，最终在基体上获得到所要的等离子的沉积面积和沉积形状，同时获得高均匀性的等离子沉积性能，从而有效解决了现有不能实现扩大等离子覆盖面积且获得高均匀性的等离子体的问题。