本发明公开了一种还原炉底盘冷却结构，涉及多晶硅生产设备技术领域，主要目的是提供一种能够均匀排出尾气，并且保证还原炉内的温度场和速度场分布更加均匀，使得硅棒的不同位置的生长速率趋于平衡的还原炉底盘冷却结构。本发明的主要技术方案为：一种还原炉底盘冷却结构，包括：底盘，底盘具有冷却管道和多个排气孔；冷却部件，底盘套管包括进水管道、尾气管道和排水管道，进水管道套在尾气管道的外部，进水管道连接于冷却管道，冷却管道连接于排水管道，尾气管道的一端连接于多个排气孔，排气套管包括第一气管和第一水管，第一气管与尾气管道的另一端相互连通，第一水管套在第一气管的外部。本发明主要用于排出冷却还原炉尾气。