Invention Grant
- Patent Title: 一种发声装置
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Application No.: CN202111674508.6Application Date: 2021-12-31
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Publication No.: CN114339552BPublication Date: 2025-02-21
- Inventor: 但强 , 沈宇 , 程诗阳 , 周一苇 , 李杨
- Applicant: 瑞声开泰科技(武汉)有限公司 , 瑞声声学科技(深圳)有限公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市光谷三路777号武汉东湖综合保税区A塔楼;
- Assignee: 瑞声开泰科技(武汉)有限公司,瑞声声学科技(深圳)有限公司
- Current Assignee: 瑞声开泰科技(武汉)有限公司,瑞声声学科技(深圳)有限公司
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市光谷三路777号武汉东湖综合保税区A塔楼;
- Agency: 深圳市恒申知识产权事务所
- Agent 钟连发
- Main IPC: H04R7/02
- IPC: H04R7/02 ; H04R7/12 ; H04R7/16

Abstract:
本发明涉及一种发声装置,包括具有腔体的基底以及固定在基底上的若干悬臂振膜,每一悬臂振膜包括固定于基底的固定端以及自固定端延伸至悬置于腔体上方的自由端,自由端包括相对设置的第一表面和第二表面;自由端与基底或其他自由端间隔形成缝隙,发声装置还包括设置在第一表面上的第一介电弹性体驱动器、设置在第二表面上的第二介电弹性体驱动器、以及固定在缝隙的周缘以完全覆盖缝隙的柔性连接件。本发明利用上下两侧的介电弹性体驱动器共同对悬臂振膜作用,可提高发声装置的线性度;且由于没有音圈和磁路系统等复杂结构,可以获得更薄尺寸的发声装置。
Public/Granted literature
- CN114339552A 一种发声装置 Public/Granted day:2022-04-12
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