发明公开
- 专利标题: 一种精准控制单晶生长界面的方法
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申请号: CN202111680189.X申请日: 2021-12-30
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公开(公告)号: CN114318513A公开(公告)日: 2022-04-12
- 发明人: 张欢 , 郝晓明 , 张宏浩 , 吴志强 , 崔彬 , 姜舰 , 连庆伟 , 李超
- 申请人: 山东有研半导体材料有限公司 , 有研半导体硅材料股份公司
- 申请人地址: 山东省德州市经济技术开发区袁桥镇东方红东路6596号(中元科技创新创业园)A座921室;
- 专利权人: 山东有研半导体材料有限公司,有研半导体硅材料股份公司
- 当前专利权人: 山东有研半导体材料有限公司,有研半导体硅材料股份公司
- 当前专利权人地址: 山东省德州市经济技术开发区袁桥镇东方红东路6596号(中元科技创新创业园)A座921室;
- 代理机构: 北京北新智诚知识产权代理有限公司
- 代理商 刘秀青
- 主分类号: C30B15/28
- IPC分类号: C30B15/28 ; C30B29/06
摘要:
本发明公开了一种精准控制单晶生长界面的方法,包括以下步骤:(1)等径直径稳定后,通过单晶炉客户端依次获得等径过程中直径稳定位置A和单晶重量W1、位置B和单晶重量W2、位置C和单晶重量W3;其中位置C为生长界面所在位置,计算位置A到位置B的单晶重量随着长度的变化率α=(W2‑W1)/(B‑A)、以及位置B到位置C的单晶重量随着长度的变化率β=(W3‑W2)/(C‑B);(2)通过计算确定出单晶理论重量随长度的变化率m,按照m随长度的变化得到一条线,并以此线作为基准线;(3)比较α和β的数值,若m<α<β,则判断生长界面为凸面,提升拉速;若m>α>β,则判断生长界面为凹面,降低拉速;(4)随着单晶长度增加,不断比较连续两段的重量随长度的变化率值,及时调整拉速。
公开/授权文献
- CN114318513B 一种精准控制单晶生长界面的方法 公开/授权日:2024-03-05
IPC分类: